海纳光学大幅提高微透镜阵列加工能力和微透镜加工精度

对于微光学元件而言，细小的误差，都会带来极大的光学效果变动。微透镜作为微光学器件的代表产品之一，对加工精度更是敏感。由于其具有小尺寸，周期性等特点，细小的加工差别，都会被极大地放大。

微透镜阵列加工能力的强弱，主要体现在以下几个参数：表面粗糙度、面型误差、焦距一致性（曲率半径误差）、子口经误差（微透镜的尺寸大小一致性）以及子单元之间的间隙大小。

经过多年的发展与客户的合作。为了更好的满足客户的要求和提高自身的产品质量，我们不断的提高自身的生产技术。最近随着设备的更新，结合我们多年微纳光学元件的生产经验，我们微透镜阵列的加工精度、加工水平有了较大的提升。无论是可加工的参数范围，还是误差精度。其中最能体现的使我们的曲率半径误差、子口经误差和间隙大小以及表面粗糙度等技术标准。下表是我们微透镜关键参数与之前的微透镜加工精度对比。

曲率半径误差，从之前的±3%提高到±1%，这以为着更为精确的面型、更小的焦距波动，更稳定的光学效益。焦距误差，在小焦距的时候可能影响不严重，但是涉及到大焦距或者高精尖的光路系统，这±2%的差异，都会带来巨大的不同。

子单元口径，最好的误差范围，仅为之前的1/2！更为精确的子单元大小，更高质量的微纳结构，无论在成像、匀光还是耦合方面，都将进一步提高元件的效果。

子单元间隙，是微透镜阵列一直存在的问题。无论是国内国外，都难以做到彻彻底底地消除间隙的存在。我司通过改善自身的技术水平，更新仪器，采用间隙挖槽的方式，将间隙刻蚀成贴近子单元曲面的凹槽，以此弱化间隙的影响，达到间隙的消除。更小的子单元间隙，代表着更高的占空比。当子单元在尺寸在20um的时候，我们的微透镜阵列的占空比就已经达到了98%。随着客户需求的子单元尺寸增大，占空比，也就是透镜的整体利用率只会更高!!

微透镜表面的粗糙度会影响微结构最终出光的质量。粗糙的子单元表面和边缘，会影响出光的效果。严重的，如果粗糙程度较高，影响的面积较大，甚至会破坏子单元该有的效果。我司之前的技术程度，会在子单元边缘有较为明显的粗糙区域。虽然只是在边缘，指影响小部分的子单元出射区域，但是也会一定程度影响出光。下图为原技术下的子单元表面粗糙度和边缘粗糙带的局部放大。

       现在技术更新后，表面粗糙度，做好能做到之前的1/5！！对比之前有了极大的提升，能够大大改善粗糙表面影响出光质量的情况。

另一个较为关键的突破是可加工面型。过去的设备只能支持我们加工平凸，也就是单面阵列。现在设备的更新和技术的提高，我们已经具备了加工双面阵列的能力。极大地提高了客户的选择性，极大地契合客户实际科研或者工业生产中可能的需求。

多年的产线经营与技术提高，我司在加工能力和加工精度上不断向国外一线厂商看齐。更高的加工精度，更强的加工能力，更优异的微透镜关键参数，必定带来更好的应用效果，更能满足客户的参数需求。我司始终坚信，只有站在用户的角度，与客户的成长一起成长，而不是遇到需求再谋求突破，只有这样，才能与客户保持长久良好的合作，才能跟上时代发展的步伐。