Skylark Lasers NX系列320 NX和349 NX激光器在干涉光刻中的应用

Skylark Lasers NX系列半导体泵浦的固体激光器可用于干涉光刻，Skylark激光器/DPSS单频激光器系列提供320 nm和349 nm波长，提供超低噪声<0.1%RMS和超窄线宽<0.5 MHz，同时在紫外光范围内保持高达200 mw的输出功率。320和349 nm连续C-DPSS激光器波长与行业标准UV光刻胶兼容，相干长度>100 m，是干涉光刻应用的理想激光源。Skylark Lasers的客户选择Skylark Lasers的超稳定、高精度窄线宽激光器来支持他们在多个干涉光刻应用中的工作。比如：

-高分辨率周期结构的纳米制造

-衍射光栅制作

-衍射光学元件制作

-滤光片制作

-激光多普勒振动仪

-纳米光子学应用

Skylark Lasers NX 激光器系列中，320 NX和349 NX的半导体泵浦的固体激光器/窄线宽激光器/DPSS单频激光器为干涉光刻提供了无与伦比的波长稳定性和非常窄的线宽。我们的激光器具有高度的频谱纯度 (>70 dB)，并且线宽小于1 MHz。连续C-DPSS激光器可为要求更高的应用量身定制，以小尺寸达到高输出功率。

Skylark Lasers NX Q&A

1.干涉光刻的应用是什么？

与使用一系列光掩模将图案从UV源压印到光敏材料上的掩模光刻相反，干涉光刻 (IL) 使用DPSS单频激光器来创建周期性图案，这些图案是通过多个激光束干涉形成的。目前，干涉光刻在纳米科学中的应用最为广泛，半导体泵浦的固体激光器可以在纳米尺度上创建周期性结构，干涉光刻也比掩模光刻降低了高昂的成本。

2. 如何进行工作的？

传统的设置可能涉及劳埃德干涉装置中的单个光束，尽管在文献中已经报道了具有多达七个光束。因为大多数设置使用相同的DPSS单频激光器，稳定性，相干长度和线宽的约束是巨大的，因为连续C-DPSS激光器输出的微小干扰，或环境可能是有害的，无论如何设置。此外，为了减少必要的曝光时间，还需要高功率。

3. 理想的参数

为了满足快速生产的需求，Skylark激光器用于无掩模光刻的激光器的特性与用于光掩模应用的特性相似。具有长期功率和波长稳定性以及窄线宽的连续波光源意味着掩模特征具有较少的变化。长寿命稳定性，几乎不需要维护或中断生产周期，对这两种应用都很重要