Pleiger Laseroptik的介电镀膜，电解质薄膜技术介绍

光学元件采用高质量的PVD镀膜进行精制，以保护表面免受环境影响或改善其光学性能。应用的镀膜厚度范围从几纳米到几微米不等。光学镀膜的沉积是一个复杂的过程。重要的参数是折射率、基材的温度、真空度和镀膜速度。然后，电解质薄膜材料的选择基于光学、机械和化学性能。相比于金属镀膜，电解质镀膜由于其低吸收性而特别适用于激光系统。带Pleiger Laseroptik介电镀膜的光学元件的反射率大于99%。

Pleiger Laseroptik介电薄膜的优势：

-对环境影响具有很高的抵抗力

-极薄的涂层

-吸收率低于金属涂层

-应用范围广

-Pleiger Laseroptik具有高水平的经验和专业知识

Pleiger Laseroptik电解质镀膜的应用：

-玻璃、硅和锗上的增透膜

-红外滤光片涂层

-高反射镜

-保护涂层

常见的介电镀膜使用的电解质薄膜材料主要包括：氧化物、氟化物以及硫化物/硒化物三种类型。具体的氧化物电解质薄膜材料有二氧化钛（TiO2）、二氧化铪（HfO2）、五氧化二钽（Ta2O5）、二氧化硅（SiO2）、氧化钇（Y203）。氟化物电解质薄膜材料有氟化镁（MgF2）、氟化钡（BaF2）、YF3。硫化锌（ZnS）和硒化锌（ZnSe）也是电解质薄膜材料。

由金属制成的光学镀膜有时具有相当大的吸收损失。因此，对于许多技术应用来说，反射率太低。因此，对于高反射镜，Pleiger Laseroptik专门使用介电镀膜。它们透射非反射部分，因此可以达到非常低的吸收值。Pleiger玻璃镀膜系统针对一种波长或激光进行了优化，因此可实现高达99.9%的反射值。Pleiger玻璃镀膜可以生产一种或两种波长的反射镜，甚至用于宽带应用。这种高功率镀膜针对高功率激光应用进行了优化。

硅镀膜是生产高功率激光反射镜的一种方法。硅的介电薄膜用于增加反射。硅电解质镀膜改善了光学应用的表面性能，可用于谐振器、偏转装置中，用于光束整形。通过适当的冷却和安装，这些带有介电镀膜的光学元件可以处理高达几千瓦的激光功率。