作者： 时间：2023-06-02
LASEROPTIK是在20世纪80年代由Johannes Ebert博士创立，由于Ebert博士在汉诺威大学量子光学研究所积累了薄膜制造和表征方面的经验，为精进镀膜技术奠定了基础。经过几十年的发展，LASEROPTIK使用许多不同的涂层镀膜技术来找到满足各种需求的解决方案，如今，有六种不同的镀膜涂层（ALD/EBE/IAD/IP/MS/IBS），每种方法都有自己的优点和缺点。
如下是六种涂层镀膜技术的详细图解：
Laseroptik的六种镀膜涂层方法分别是原子层沉积(ALD)，电子束蒸发(EBE)，离子辅助沉积(IAD)，离子电镀(IP)，磁控溅射 (MS)和离子束溅射(IBS)，这几种涂层镀膜的特点分别是柱状结构，高封装密度以及很高的薄膜一致性等，能够满足高功率反射镜和晶体涂层等的特殊要求。
图1：涂层镀膜技术原理结构图
Laseroptik镀膜技术的比较：
选择最适合每个标准重要性的涂层技术是很有必要性的，但需要了解到客户的具体需求才能更好的选择镀膜涂层技术方案。以下图示是不同特性不同应用使用哪种涂层最有效果的示意图，其中深绿色是表示特别适合，浅绿色是表示可以使用，白色是表示通常不合适。
由图我们能看出这六种Laseroptik涂层在可见光（VIS）和近红外（NIR）都特别适合，但在真空紫外（VUV）就只能推荐电子束蒸发（EBE）的涂层技术方法。综合分析，离子束溅射(IBS)是适合各种应用范围和特性的，但是性价比一般，通过这些分析，我们能够选出最合适客户需求的产品。
损伤阈值LIDT
图2：涂层比较图
原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)优缺点：
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优点 |
缺点 |
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- 在三维光学器件上镀膜 - 极端的薄膜符合性 - 优秀的微观结构 - 低的内应力 |
- 所有表面都有涂层 - 沉积率低 - 生产成本高 |
电子束蒸发(Electron Beam Evaporatio，EBE)优缺点：
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优点 |
缺点 |
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- 高沉积率 - 良好的成本-性能比 - 高LIDT - DUV到IR |
- 热漂移 |
离子辅助沉积(Ion Assisted Deposition，IAD)优缺点：
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优点 |
缺点 |
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- 密度接近于体积 - 没有热漂移 - 沉积率高 - 内应力可以被优化 |
- VIS / NIR：LIDT接近于EBE |
离子电镀(Ion Plating，IP)优缺点：
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优点 |
缺点 |
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- 极具机械抗性 - 高密度，高折射率 - 高沉积率 |
- 高应力 |
磁控溅射 (Magnetron Sputtering，MS)优缺点：
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优点 |
缺点 |
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- 非常致密和坚硬的涂层 - 通过欧空局的空间认证 - 高精度 - 紫外线涂层和cw的高LIDT - 低温涂层 |
- 压缩应力（取决于案例） |
离子束溅射(Ion Beam Sputtering，IBS)优缺点：
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优点 |
缺点 |
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- 最高的精度，最复杂的涂层设计 - 最低的损耗 - 优秀的微观结构 - 高密度 |
- 应力，可进行补偿 - 沉积率低 |
