作者： 时间：2024-06-20
Holographix LLC公司其产品大类主要有微透镜阵列和漫射体（匀化器）、衍射光学、波导和其他产品。其中微透镜阵列和漫射体大类下主要有微透镜阵列、微透镜阵列样品、光学漫射体、漫射体阵列样品，而其他产品大类下主要包括纳米和微米光学、纳米压印模板、复制镜片，本篇文章主要介绍Holographix公司的微透镜阵列、微透镜阵列样品、光学漫射体、漫射体阵列样品、纳米和微米光学、纳米压印模板、复制镜片等产品。
一、微透镜阵列
Holographix设计和生产高性价比、高质量的定制微透镜阵列，以满足客户严格的规格要求。包括各种阵列，从基本的球面到更复杂的衍射和非球面。Holographix LLC 的微透镜阵列可按亚微米公差生产，具有多种形状和包装配置。
Holographix的优势
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高性价比的解决方案 |
Holographix LLC 的复制工艺可经济地扩展至批量生产，每年可生产 100 个独立元件至 10,000 个晶圆 |
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多种子单元材料可选 |
专有的复制材料折射率从 1.52 至 1.68 |
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回流焊兼容性 |
适用于需要回流焊的组件 |
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卓越制造 |
具有可重复性能的高质量定制微透镜阵列！Holographix已通过 ISO 9001:2015 认证，所有光学元件和组件均在美国制造 |
微透镜阵列的应用
微透镜阵列日益成为最先进的新型光学系统的组成部分，其应用领域十分广泛，包括共焦显微镜、数字投影仪、显示和 HUD 成像系统、照明系统、激光雷达系统、光场相机和系统、医用激光系统、光学传感器、白光干涉仪。
可加工的微透镜阵列类型
包括衍射、球面、非球面、变形镜头、双圆锥、环形、自由曲面、微镜、随机小透镜阵列（漫射体）、圆柱形、紧密排列的六边形和方形阵列、在玻璃、金属和塑料上制造的微透镜阵列
Holographix LLC 可支持的定制微透镜阵列规格
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阵列大小 |
最大为 600 mm x 350 mm |
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子单元尺寸 |
<1um至>1mm |
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子单元轮廓 |
折射或衍射、非球面、圆锥或非球面 |
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子单元矢高 |
<1 µm 至 >100 µm |
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基底材料 |
大多数玻璃和塑料类型 |
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阵列分布 |
方形、六角形或定制 |
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填充系数 |
99%以上 |
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透射波长范围及透射率 |
从 400 纳米到 2.6 微米，>99% |
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折射率 |
1.52 至 1.68（提供多种材料） |
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温度范围 |
-50º C 至 260º C（与回流焊兼容） |
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损伤阈值 |
>1 MW/cm² |
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耐化学性 |
大多数常用的溶剂 |
二、微透镜阵列样品
阵列大小
50 mm x 50 mm
基底尺寸
76.2mm x 76.2mm
基底材料
1.1 mm康宁 Eagle XG 玻璃*
微透镜阵列材料
玻璃上的聚合物
折射率
1.51* @ 633nm
透射波长范围
400-2200nm
子单元口径
15um
子单元曲率半径
~ 8um
子单元曲率
凸面*
备注：* 根据要求提供其他选项。
三、光学漫射体（匀化器）
Holographix可支持的定制光学漫射体（匀化器）规格
尺寸
直径最大为 300 mm
一致性
<5% 误差
发散角
最高 120 度
材料
玻璃上的聚合物
透射率
>99% 带 AR 涂层
透射波长范围
>99% 从 400nm 到 2.6um
温度范围
-50º C 至 260º C（与回流焊兼容）
耐化学性
大多数常用的溶剂
损伤阈值
>1 MW/cm²
四、光学漫射体阵列样品
1、漫射体阵列样品 1° 至 2°
漫射区域 (4)：
10mm x 10mm（见下面的布局）
基底尺寸
76.2mm x 76.2mm
基底材料
1.1 mm康宁 EagleXG 玻璃
漫射体材料
玻璃上的聚合物
折射率
1.51 * @ 633nm
漫射体输出形状
圆形/六角形（见图片）
发散角
1° 和 2°（见图片）
注意：* 根据要求提供其他选项。
2、漫射体阵列样品 10° 至 75°
漫射区域 (4)
10mm x 10mm（见下面的布局）
基底尺寸
76.2mm x 76.2mm*
基底材料
1.1 mm康宁 EagleXG 玻璃*
漫射体材料
玻璃上的聚合物
折射率
1.51 * @ 633nm
漫射体输出形状
圆形/六角形（见图片）
发散角
10° 至 75°（见图片）
注意：* 根据要求提供其他选项。
五、纳米和微米光学
高保真度表面浮雕结构
Holographix LLC 专注于利用最先进的复制技术生产高保真度表面浮雕结构。我们专有的冷成型复制工艺可以在各种形状、尺寸和材料的基底上复制几乎任何表面结构。从微透镜阵列、亚微米母片结构到高纵横比衍射光栅，我们都能以高保真度塑造表面结构，在很多情况下，子件的性能都能与母片相媲美。Holographix复制的结构间距和深度从小于 10 纳米到大于 100 微米不等。
纳米和微米光学应用：图案化石英掩模和硅晶片、用于微流体应用的微孔、光学漫射体、衍射和折射微光学器件、波导结构、母片防反射结构
优点
在不影响质量的前提下，为小批量或大批量生产提供高性价比的方法；
通过生成可复制的压模和模板工具，为您的初始投资提供保障。
Holographix LLC 的纳米和微光学技术规格
特征分辨率
>10 纳米
温度范围
-50° C 至 200° C
湿度范围
0 到 95% 的连续变化
耐化学性
不易被溶剂降解，耐酸碱环境
六、纳米压印模板
高保真度表面浮雕结构
Holographix与我们的母版制作合作伙伴密切合作，利用石英或硅母版复制纳米压印模板，为压印光刻行业制造纳米结构提供高性价比的工具。
为什么需要复制模板？
Holographix LLC 可直接从您的母版中生产 10 或 100 个复制压印模板，用于您的压印光刻应用，为何还要冒险使用高价值的石英或硅母版呢？Holographix能够从几乎任何原始介质中创建压印模板。 只需一个表面浮雕图案即可！
我们使用的介质包括电子束写入反应离子蚀刻硅母版、电子束写入反应离子蚀刻石英母版、光阻母版、镍压模、PDMS 模具。
优点
母版不需要脱模剂
降低母版初始投资风险
可重复、高保真地复制母版图案
与母版复制相比，模板复制具有更高的可重复性
能够创建纵横比 >4:1 的 <50nm 特征尺寸
能够在整个过程中保持 Mesa 结构
优异的耐用性和耐溶剂性
模板特征
特征分辨率
>10 纳米
温度范围
-50° C 至 200° C
湿度范围
0 到 95% 的连续变化
耐化学性
不易被溶剂降解，耐酸碱环境
七、复制镜片
定制复制镜片
复制镜片为那些需要高性价比、可重复的高性能量产解决方案的客户提供了一种极具吸引力的传统制造镜片替代方案。Holographix
LLC 使用专有的复制工艺和材料，在金属、玻璃、陶瓷和塑料基底上生产各种精密光学表面，让光学设计师在设计和优化光学系统时有更多选择。
复制镜片的优点
一般优势
可自由选择最合适的镜片基底材料（CTE 匹配、轻量化等）
与传统抛光镜片相比，可重复性更高
与传统抛光镜片相比，生产率更高，成本更低
复制金属镜片的其他优势
将安装和校准功能集成到基板中，简化了系统设计
可将反射镜片的 CTE 与底座相匹配，以实现热稳定性
与玻璃镜片相比，重量更轻
由于金属的延展性，降低了受伤的风险
通过镜子和支架的集成，简化了制造过程，降低了装配成本
复制玻璃镜片的其他优势
非球面镜片采用低成本、传统抛光的球面毛坯制造
可直接替代传统抛光玻璃镜片
复制镜片应用：军用光学系统、天基系统、电位计系统、光谱仪系统、气体分析仪系统
可加工的复制镜片类型包括：离轴抛物面镜片、轻型镜片、具有集成安装功能的镜片、通用非球面镜片
Holographix可支持的定制复制镜片规格
波长范围
190 纳米至 15 微米
平坦度/曲率
< 1/10 波
划痕/坑点
低至 20/10
温度范围
-50° C 至 200° C
湿度范围
0 至 95% 连续
耐化学性
大多数常用的溶剂
