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NILT纳米压印模板,掩膜标准品

NILT纳米压印模板,掩膜标准品

丹麦NILT供应各类材质(包括硅、石英、聚合物、镍、PDMS)的纳米压印模板/掩膜标准品。这些纳米压印模板/母膜的制造通常是由热模压、滚印、注射模塑或紫外压印等工艺制成,根据功能的不同。NILT纳米压印掩膜可分为抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,金属线栅偏光镜标准模板,微针体标准母膜,大面积柱形标准母膜,微图形标准模板 (MICRO),亚微米标准模板等热压印模板,NILT提供大量的微加工掩膜标准品以便快速满足用户的需求。 型号:ARSS_B_06……

所属品牌: 丹麦NILT

应用类型:

产品型号:

负责人:孙工 微透镜
联系电话:13692216712 电子邮箱:zmsun@welloptics.cn

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抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,NILT纳米压印模板、掩膜、标准模板

 

丹麦NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 公司除了提供纳米压印机外,还供应各类材质,各类功能的压印模板,掩膜。

NILT通过纳米压印机的热模压、滚印、注射模塑和紫外压印等不同的工艺,能生产制造出各类不同功能的掩膜/模板。其中标准的压印掩膜(模板)根据功能的不同,分为抗反射掩膜,增光掩膜,衍射光栅模板,金属线栅偏光镜标准模板,微针体标准母膜,大面积柱形标准母膜,微图形标准模板 (MICRO),亚微米标准模板。

 

标准压印掩膜(Standard Stamp

 

NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)

抗反射膜模板的特点是以大面积为主;适用于可见光范围和近红外范围,反射率可减低到 0.2%

规格

Type B

Type A

Type C

Type NIR

模板型号

ARSS_B_06

ARSS_A_02

ARSS_C_02

ARSS_NIR_02

材质

Nickel

Nickel

Nickel

Nickel

光栅类型

Hexagonal Array

Hexagonal Array

Hexagonal Array

Hexagonal Array

Pitch

300 nm

250 nm

250 nm

500 nm

Average height

300 nm

350 nm

350 nm

Larger than 700 nm

模板厚度

300 µm

300 µm

300 µm

300 ?m

模板尺寸

70 mm x 70 mm

120 mm x 120 mm

250 mm x 250 mm

100 mm x 100 mm

有效面积

50 mm x 50 mm

100 mm x 100mm

200 mm x 200 mm

80 mm x 80 mm

Expected %R PMMA

Less than 0.6%

Less than 0.2%

Less than 0.2%

Less than 0.2%
Less than 0.3%

Pattern polarity

Protrusions

Protrusion

Protrusions

Holes

 

 

NIL衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)

衍射光栅采用镍材质模板,表面纹路分为线状或交叉状两种,平均深度为250nm,线距为500nm。适合用于:LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING,将不同光导入波导WAVEGUIDE,光学分束,镭射感应器,薄膜行业和太阳能光伏等。

特点:

纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ,纹路的参数也不同

80 x 80mm有效面积(模板面积为100 x 100mm

规格:

规格

Linear Grating

Crossed grating

模板型号

DG_L500

DG_C500

材质

Nickel

Nickel

Profile shape

Sinusoidal

Sinusoidal

Pitch

500 nm

500 nm

Average depth

250 nm

250 nm

模板厚度

300 µm

300 µm

模板尺寸

100 mm x 100 mm

100 mm x 100 mm

有效面积

80 mm x 80 mm

80 mm x 80 mm

 

NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)

一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试,而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板,可避免频繁的测试,免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状,槽宽、槽距均为50nm,模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm,模板复制子模适用于UV或热压过程。

规格:

规格

Type A

Type B

模板型号

WGPSS_A_V1

WGPSS_B_V1

模板尺寸

2 inch round wafer with flat

2 inch round wafer with flat

材质

Silicon

Silicon

有效面积

12 mm x 12 mm

6 mm x 6 mm

模板厚度

500 µm +/- 25 µm

500 µm +/- 25 µm

结构类型

50 nm wide grooves with 50 nm spacing

50 nm wide grooves with 50 nm spacing

横向公差

+/- 10 nm

+/- 10 nm

结构深度

100 nm

100 nm

垂直公差

+/- 15 nm

+/- 15 nm

缺陷密度

Less than 0.01% of patterned area

Less than 0.01% of patterned area

 

NIL微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)

NILT提供的微针体标准模板的特点是特点:1. 微针呈正方形排列相隔500um 2. 有效面积达70mm(斜角计)

微针体模板可经热压或铸造出所需微针形状,可利用模板采用镍片注塑而成。标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试,医学方面可应用的涂药式微针或注射式微针。

规格:

规格

Micro-needle - Type A

模板型号

MNSS_A_V1

材质

Silicon

微针布局

Square array

微针基本尺寸

100 µm x 100 µm

微针高度

200 µm (base to tip)

微针尖端高度

70 µm

微针尖端曲率半径

~1 µm

微针间距

500 µm

模板尺寸

100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat)

模板厚度

525 µm (SEMI standard wafer with a flat)

有效面积

70 mm diagonal square area in the center

 

NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)

NILT的精工增光掩膜可精准控制增光度,形状可选择直线、椭圆形和圆形,定制性强,面积可达 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如镭射、LEDLCD的背光源,而同时拥有很高的透光率。

规格

Circular version

Type B

Type D

模板型号

EDSS_B_C_V1

EDSS_D_C_V1

结构类型

Engineered Diffuser

Engineered Diffuser

输出类型

Circular diffusion

Ciruclar diffusion

Diffusion angles (FWHM)*

25°

25°

材质

Nickel

Nickel

模板厚度

300 µm

300 µm

模板尺寸

70 mm x 70 mm

120 mm x 120 mm

有效面积

50 mm x 50 mm

100 mm - 100 mm

 

NIL大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)

大面积柱形标准模板采用光子晶体结构,是以方形排列光子晶体并分布在41平方米的格子的硅晶圆上。

可选4种不同规格的大面积柱形模板,结构尺寸在125 – 275nm之间,

规格:

规格

模板型号

LAPSS_V1

模板尺寸

2 inch round wafer

材质

Silicon

厚度

525 µm +/- 25 µm

结构尺寸

125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares)

Structure pitch

200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm

Protrusion height

100 nm - 300 nm (you decide!)

Tolerance, lateral and vertical dimensions

+/- 15%

缺陷密度

Less than 0.1% of total patterned area

 

NIL亚微米标准模板 (SUB-MICRO)

亚微米标准模板的图形有3种,包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um),是专门为测试亚微米至纳米级压印而设计的,材料可选择硅或石英,标准尺寸为 20 x 20mm

规格:

模板型号

MSS_V1

模板尺寸

20 mm x 20 mm

材质

Silicon

厚度

1 mm

结构尺寸

1 µm - 50 µm

Etch depth

2 µm, 5 µm or 10 µm

Pattern field size

4 mm x 4 mm

交期

3-4 weeks

 

NIL微图形标准模板 (MICRO)

微图形标准模板有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状,其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。

规格:

模板型号

SMSS_SIQZ_V1

模板尺寸

20 mm x 20 mm

材质

Silicon or Fused Silica

厚度

1 mm

结构尺寸

500 nm - 2 µm

Etch depth

1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica

Pattern field size

5 mm x 5 mm

交期

3-4 weeks

 

微透镜阵列模板

NILT提供带凹面或凸面微透镜阵列的纳米压印模板,用于通过热压印或注塑成型生产聚合物微透镜阵列。 材质一般采用熔融石英或镍制成。 NILT可以独立的控制镜头深度、高度和宽度,因此可以在压印模板上制作任何抛物面镜片形状。

压印模板的直径可达150mm,镜头尺寸从300nm-400μm,还可以提供具有凸透镜和凹透镜阵列的聚合物材质复制品。

微透镜阵列压印模板

压印模板尺寸

可达150 mm

压印模板材质

熔融石英或镍

微透镜尺寸

300 nm - 400 µm

SAG

可达 50 µm

Lens arrangements

Hexagonal closed packed

Square and hexagonal, not closed packed

Lenticular

 

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